Im Zeitalter der rasanten technologischen Entwicklung der integrierten Photonik und der damit verbundenen hohen Nachfrage nach modernen und effizienten Methoden zur Herstellung von Strukturen gehen wir diese Probleme an, indem wir ein optimales Verfahren zur Herstellung photonischer Strukturen mit einem fokussierten Ionenstrahl zur Verfügung stellen.
Nanores, ein Nanotechnologielabor, verfügt über fortschrittliche Zweistrahl-SEM/FIB-Mikroskopiesysteme, die sowohl Materialforschung als auch Prototyping im Mikro- und Nanobereich ermöglichen. Das Unternehmen hat sich auf den Einsatz der fokussierten Ionenstrahltechnologie spezialisiert, um photonische Strukturen verschiedener Art für so genannte integrierte photonische Anwendungen herzustellen. Es sind zwei verschiedene DualBeam-Systeme erhältlich, die sich in der Quelle des Ionenstrahls unterscheiden: Ga-FIB (Gallium Focused Ion Beam), Xe-PFIB (Xenon Plasma Focused Ion Beam). Der Ionenstrahl wird je nach Anwendung ausgewählt und seine Wahl hängt von dem Material ab, mit dem Sie arbeiten, und von der Struktur, die Sie herstellen möchten. Das liegt unter anderem an den unterschiedlichen Betriebsparametern dieser Strahlen, wie z.B. dem Strombereich und der Strahlfleckbreite in Abhängigkeit von der Beschleunigungsspannung. Darüber hinaus hängt viel von der Physik der Wechselwirkung des Strahls mit dem Substrat ab.
Wir haben Erfahrung im Design und Prototyping von Mikrosäulen- und Mesastrukturen in Halbleitermaterialien der Gruppe III-V wie GaAs und InP mit InGaAs/GaAs bzw. InAs/InP-Quantenpunkten. Wir können sowohl einzelne Strukturen als auch ganze Serien herstellen, je nach Umfang der Arbeit und Bedarf im Experiment.
Im Rahmen des Strukturdesigns sind wir in der Lage, numerische FDTD-Simulationen durchzuführen, um die optimalen Strukturabmessungen zu bestimmen und die Photonenemissionssammlung zu optimieren, sowie spektroskopische Studien der hergestellten Strukturen durchzuführen, wie z.B.: Mikro-Photolumineszenz, Photonenkorrelation.
Darüber hinaus ist es in unserem Labor möglich, Schichten aus verschiedenen Elementen aufzubringen, z.B. Au, Ag, Pt, C mit Hilfe einer Sputtermaschine oder eines Gasinjektionssystems (GIS). Falls erforderlich, können wir auch externe Geräte einsetzen, um Oberflächen durch Nassätzen zu modifizieren. Dank der Software des DualBeam SEM/FIB-Systems und ja Streamfiles (Anweisungen, die die Dynamik des Ionenstrahls, seine Flugbahnen und Betriebsparameter beschreiben) sind wir in der Lage, jede Form und Größe von Strukturen herzustellen.
Darüber hinaus haben wir Erfahrung in der Herstellung von Strukturen wie photonischen Kristallen und Fresnel-Linsen. Wir können die Oberfläche von Proben abbilden, indem wir ein Marker-Array als Referenzsystem verwenden, um aktive optische Objekte, wie z.B. Quantenpunkte, zu lokalisieren. Die Kosten für die Herstellung der Struktur hängen von vielen Faktoren ab, so dass die Preisgestaltung zusammen mit dem Umfang des Projekts immer individuell auf die Bedürfnisse des Kunden abgestimmt wird.
