The HelixJet is a capacitively coupled radio-frequency plasma source operating at atmospheric pressure. Its innovative double helix electrode design ensures stable and homogeneous plasma conditions at low gas flow rates, making it ideal for applications like plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) of silicon dioxide and plasma microprinting of polymeric profiles.
Auflistung Beschreibung
Angebot Details
Spezifikationen und Deliverables:
• Power: 30–100 W
• Frequency: 13.56 and 27.12 MHz
• Compatible Gases: Argon and its mixtures
• Gas Flow Rate: 100–2000 sccm
• Operating Pressure: 1 bar
• Technology Readiness Level: TRL 5
Nutzenversprechen:
• Stable and homogeneous plasma at low gas flow rates
• Suitable for large-area surface treatments
• Operates at atmospheric pressure, removing the need for vacuum systems
• Innovative electrode design enhances process reproducibility
• Versatile applications in surface modification and coating
Eingabe vom Kunden erforderlich:
• Details of the specific application
• Material specifications
• Desired treatment outcomes
• Selection of process gases and flow rates
Patent-/Veröffentlichungsnummer
Wichtigste Patentansprüche:
Video
Dokumente
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Adresse:
Greifswald
Mecklenburg-Vorpommern
17489
Deutschland